A Diborylcarbazolyl Ligand for Stabilizing Low-Coordinate and Low-Valent Metal Complexes
Yen-Hua Lee, Wei-Chieh Chang, Hsuan-Wen Fu, Han-Jung Li, Ting-Shen Kuo,
Tzuhsiung Yang, and Hsueh-Ju Liu
Inorg. Chem. 2026, 65, 9, 4997–5008
國立陽明交通大學 應用化學系 劉學儒副教授
國立清華大學 化學系 楊自雄助理教授(工作完成時單位)
低配位錯合物通常指金屬配位數少於三的錯合物,由於其高度不飽和的金屬中心,這些錯合物時常展現出獨特的電子性質與較不尋常的反應性。而配體的設計在合成低配位錯合物尤為重要,使用具有大立體阻礙的配體來穩定此類活潑物質已被證實是個有效的方法。
在此篇研究中,我們設計並合成出一個以咔唑為骨架並在1,8位帶有兩個大立體障礙的二芳基硼烷的新型配體。原設計目的是想利用硼烷中心可與金屬形成Z型作用來穩定低配位、低價態金屬中心,而在目前研究中我們並未觀察到明顯金屬-硼鍵結。研究結果顯示此配體可有效支持多種過渡金屬,穩定其低配位環境,包括文獻上第一例的二配位鐵(Ⅱ)、鈷(Ⅱ)氯化錯合物,低價數的鎳(I)與銅(I)錯合物以及三核鉻錯合物。此研究展示了二硼咔唑配體在低配位金屬化學中的新設計策略與未來可預期的金屬硼烷協同反應。